Tiefdruck – Drucken von Lichtwellenleiter in industriellem Maßstab
von Ansgar Wessendorf,
Der Tiefdruck setzt sich von anderen Druckverfahren insofern ab, dass mit ihm die hochpräzise Wiedergabe von Mikroschriften, Sicherheitselementen, individuellen Sicherheitsmerkmalen wie »Hidden images« zur Produktidentifikation oder das Applizieren elektrischer Schaltkreise auf Trägermaterialien möglich ist. Außerdem sind mit den heutigen Technologien zur Tiefdruckformherstellung höchste Auflösungen (10.000 l/cm!) und Rastergeometrien jeglicher Form erreichbar. Die Mikroskopaufnahme gibt davon eine Vorstellung
(Quelle: Schepers)
Seit Oktober 2019 ist es offiziell. Als Spezialist im Verpackungsdruck mit jahrzehntelanger Erfahrung ist Janoschka Projektpartner im Vorhaben mit dem offiziellen Titel “Direktdruck und Integration von optischen Kurzstrecken-Netzwerken (OptiK-Net)”.
Das vom Bundesministerium für Bildung und Forschung (BMBF) geförderte Projektvolumen von insgesamt drei Millionen Euro für sechs geförderte Konsortialpartner unterstreicht das zukunftsweisende Potential dieser Forschung.
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Hierfür sollen unterschiedliche Druckverfahren (Sieb-, Flexo- und Tiefdruck) untersucht werden. Als Tiefdruck-Experte widmet sich Janoschka am Standort Kippenheim der Forschung und Entwicklung einer innovativen Druckform, die letztlich den Einsatz von gedruckten Lichtwellenleiter in unterschiedlichen Bereichen unseres Alltags ermöglicht.
Der Auftrag von OptiK-Net ist es, die Vorteile elektronischer Leiterplatten mit denen einer optischen Kommunikation ideal zu verbinden. Die kosten- und ressourceneffiziente Produktion solcher Lichtwellenleiter ist das erklärte Ziel. Durchsatzstarke Druckverfahren sollen erstmalig befähigt werden, hochfunktionale Lichtwellenleiter auf Polymerbasis für optische Netzwerke direkt und in industriellem Maßstab zu drucken.
